Bruno Cvikl (Avtor)

Povzetek

V članku je opisan postopek naparjevanja tankih plasti po metodi curka ioniziranih skupkov, ki rabi za nizkotemperaturno nanašanje in epitakso visokokvalitetnih tankih plasti.

Ključne besede

vakuumska tehnika;CIS;curek ioniziranih skupkov;tanke plasti;

Podatki

Jezik: Slovenski jezik
Leto izida:
Tipologija: 1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija: UM FGPA - Fakulteta za gradbeništvo, prometno inženirstvo in arhitekturo
Založnik: Društvo za vakuumsko tehniko Slovenije
UDK: 539.216:539.23
COBISS: 4402180 Povezava se bo odprla v novem oknu
ISSN: 0351-9716
Matična publikacija: Vakuumist
Št. ogledov: 1127
Št. prenosov: 26
Ocena: 0 (0 glasov)
Metapodatki: JSON JSON-RDF JSON-LD TURTLE N-TRIPLES XML RDFA MICRODATA DC-XML DC-RDF RDF

Ostali podatki

Sekundarni jezik: Neznan jezik
Sekundarni naslov: Ionized cluster beam thin film deposition, ICB.
Sekundarni povzetek: The description of the method for the thermal vacuum evaporation of suitable substance, used for the low temperature deposition and epitaxy of high-qualitythin films by the ionized cluster beam method (ICB), is presented.
Sekundarne ključne besede: vacuum techniques;ICB;ionized cluster beam;thin films;
URN: URN:NBN:SI
Vrsta dela (COBISS): Delo ni kategorizirano
Strani: str. 15-20
Letnik: ǂVol. ǂ29
Zvezek: ǂno. ǂ4
Čas izdaje: 1992
ID: 1754754